半導(dǎo)體制造工藝中各類廢氣的產(chǎn)生主要來源于清洗、濕法刻蝕、光刻顯影、去膠、CMP等工藝。
在半導(dǎo)體制造過程中，廢氣的產(chǎn)生主要涉及以下幾個(gè)環(huán)節(jié)：
堿性廢氣主要來源于清洗、濕法刻蝕、光刻顯影、去膠、CMP等工藝，污染物包括NH3、NaOH等。這些廢氣通過噴淋洗滌處理，常用吸收液為H2SO4溶液進(jìn)行處理，處理效率可達(dá)98%。
有機(jī)廢氣主要來源于清洗、CVD、光刻、濕法刻蝕、去膠及擴(kuò)散等工藝。有機(jī)廢氣種類繁多，包括異丙醇、丙酮、丙二醇單甲醚乙酸酯、乳酸乙酯、乙酸丁酯、重芳烴等。處理技術(shù)主要包括活性炭吸附和沸石濃縮轉(zhuǎn)輪+焚燒，其中焚燒技術(shù)如蓄熱式燃燒(RTO)和直接燃燒(TO)的效率可達(dá)≥95%，但會增加CO2排放。
砷排處理含砷廢氣來源摻雜制程工序，廢氣包括砷烷、磷烷和硼烷。處理系統(tǒng)采用Local Scrubber預(yù)處理后，通過干式吸附，常用設(shè)備為砷磷烷吸附塔，吸附后通過末端風(fēng)機(jī)負(fù)壓達(dá)標(biāo)排放。
這些廢氣的產(chǎn)生與半導(dǎo)體制造工藝的復(fù)雜性密切相關(guān)，天得一作為一家專業(yè)的技術(shù)型環(huán)保企業(yè)，深耕廢氣治理已近20年，為客戶提供定制化廢氣治理系統(tǒng)解決方案，節(jié)能高效，歡迎客戶朋友們咨詢。
